半导体行业废气来源、成分及治理方法

首先，半导体废气的来源主要包括生产过程中的化学气相沉积、物理气相沉积、刻蚀、热处理等步骤。这些废气中含有大量的有害物质，如砷化物、硒化物、氯化物、氟化物、氰化物等，对生产环境、员工和周围居民健康具有很大的危害。

传统的半导体废气治理方法主要包括物理法、化学法和生物法。物理法主要是通过吸附、冷凝等手段去除废气中的有害物质；化学法主要是通过化学反应转化废气中的有害物质；生物法主要是利用微生物降解废气中的有害物质。然而，这些方法都存在一定的局限性，如处理效率低、处理成本高、处理效果不稳定等。

为了解决这些问题，科研人员正在研发新的半导体废气治理方法。例如，一种新型的半导体废气治理技术——光催化技术，它利用光催化剂在光照下产生氧化还原反应，将废气中的有害物质转化为无害物质。这种技术具有处理效率高、处理成本低、处理效果好的优点，被誉为21世纪蕞具潜力的环境友好型技术之一。